国产半导体设备龙头在科创板上市！

  4月20日，拓荆科技股份有限公司(以下简称“拓荆科技”)首次公开发行股票并在上海证券交易所科创板上市。

  拓荆科技成立于2010年，主要是做高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。公司基本的产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备3个产品系列，是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，也是国内主要的量产型ALD设备供应商。

  拓荆科技是国产薄膜沉积设备有突出贡献的公司，其产品已大范围的应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，在不一样的种类芯片制造产线的多道工艺中得到商业化应用。

  值得一提的是，在半导体设备领域，国家集成电路基金、国投上海等先后成为拓荆科技重要股东。

  报告期内，拓荆科技呈增长趋势，2018年至2021年1-9月各期营收分别为7064.40万元、2.51亿元、4.36亿元和3.74亿元。

  由于股权较为分散，拓荆科技无控制股权的人或实际控制人。本次IPO，拓荆科技计划募资10亿元，将分别用于“高端半导体设备扩产”、“先进半导体设备的研发技术与改进”、“ALD设备研发与产业化”与“补充流动资金”四个项目。

  报告期内，拓荆科技2018年至2021年1-9月各期营收分别为7064.40万元、2.51亿元、4.36亿元和3.74亿元，近三年复合增长率达148.32%。

  随着营收的增长，拓荆科技亏损逐步减少，并在2021年前9个月实现扭亏为盈。其2018年、2019年、2020年和2021年1-9月净利润分别为-1.03亿元、-1936.64万元、-1169.99万元和5704.87万元。

  报告期各期，拓荆科学技术研发投入分别为1.08亿元、7431.87万元、1.23亿元和1.30亿元，分别占各期营收的152.84%、29.58%、28.19%和34.65%。由于2018年拓荆科技营收较少，其研发投入占比超过100%。

  相关业内的人表示，半导体行业技术更新快、投资占比高、验证壁垒高，半导体设备需要超前上游开发新一代设备。因此，半导体设备供应商要一直推出更先进的制造工艺，革新技术水平。返回搜狐，查看更加多